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雙管區熔提純爐

雙管區熔提純爐

所屬分類:區熔爐

產品型號:KQZ-20-11

更新時間:2026-09-04

描述:雙管區熔提純爐采用雙溫區高頻感應加熱結構,在真空或保護氣氛條件下完成材料的區熔提純與致勻處理。設備配置石英真空腔室、紅外測溫裝置與 PLC 觸摸屏控制系統,可直觀觀察物料加工過程。適用于金屬、半導體、無機及有機材料的實驗室提純、單晶摻雜致勻、擴散率測試等科研試驗。整機運行穩定,操作便捷,能夠滿足高校、科研院所及企業實驗室的小批量材料研發需求。

詳細信息

雙管區熔提純爐是面向材料科研領域的專用試驗設備,依托雙溫區高頻感應加熱工藝,在真空或者惰性保護氣氛環境中,對棒狀試樣開展區熔提純、雜質均勻化摻雜等試驗工作。設備配置兩根獨立加工管腔,可同步或者分別開展試驗,提升科研試驗效率。

雙管區熔提純爐爐體核心腔室選用透明石英材質,試驗人員能夠直接觀察熔區移動、熔融狀態等工藝現象,便于記錄試驗現象與調整工藝參數。配備紅外測溫組件,實時采集溫區溫度數據;搭配真空壓力表,直觀反饋腔體內壓力狀態,方便把控試驗氣氛條件。整機采用觸摸屏加 PLC 一體化控制方式,加熱啟停、熔區移動速度、往復次數等工藝參數均可在界面設置,支持自動運行與手動調試兩種模式,同時具備數據記錄、歷史曲線查詢功能,便于留存試驗數據。

設備冷態極限真空≤5Pa,額定溫度區間 500?1000℃,適配多種易氧化、對氣氛敏感的試驗材料。設備主要用于金屬材料提純、半導體單晶致勻處理,也可用于部分有機、無機化學材料的精制,還可完成試樣焊接、液體擴散率測定等相關科研項目。

設備整體結構布局合理,各模塊便于拆裝維護,適配實驗室研發場景。整機配備電氣防護設計,降低操作風險。設備出廠后提供基礎質保服務,后期可提供技術咨詢,方便用戶開展長期的材料研發工作。


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